Skip to main content
Tagasi

EVS-EN 62418:2010

Semiconductor devices - Metallization stress void test

Üldinfo

Kehtiv alates 04.11.2010
Alusdokumendid
IEC 62418:2010; EN 62418:2010
Tegevusala (ICS grupid)
31.080 Pooljuhtseadised
Direktiivid või määrused
puuduvad

Standardi ajalugu

Staatus
Kuupäev
Tüüp
Nimetus
04.11.2010
Põhitekst
This International Standard describes a method of metallization stress void test and associated criteria. It is applicable to aluminium (Al) or copper (Cu) metallization. This standard is applicable for reliability investigation and qualification of semiconductor process.

Nõutud väljad on tähistatud *

*
*
*
PDF
16,12 € koos KM-ga
Paber
16,12 € koos KM-ga
Sirvi standardit alates 2,48 € koos KM-ga
Standardi monitooring