Skip to main content
Tagasi
UUS

ISO 19383:2026

Atomic layer deposition — Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors

Üldinfo

Kehtiv alates 01.06.2026
Direktiivid või määrused
puuduvad

Standardi ajalugu

Staatus
Kuupäev
Tüüp
Nimetus
01.06.2026
Põhitekst
This document defines the chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity and anion content specification.

Nõutud väljad on tähistatud *

*
*
*
PDF
133,39 € koos KM-ga
Paber
133,39 € koos KM-ga
Standardi monitooring