Skip to main content
Tagasi
UUS

ISO 25164:2026

Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification

Üldinfo

Kehtiv alates 03.08.2026
Tegevusala (ICS grupid)
25.220.40 Metallpinded
Direktiivid või määrused
puuduvad

Standardi ajalugu

Staatus
Kuupäev
Tüüp
Nimetus
03.08.2026
Põhitekst
This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering.
This document is also applicable to the deposition of TiN, TiAlN or TiSiN thin films.

Nõutud väljad on tähistatud *

*
*
*
PDF
58,69 € koos KM-ga
Paber
58,69 € koos KM-ga
Standardi monitooring